नॅनो अँटिमनी ट्रायऑक्साइड

नॅनो अँटिमनी ट्रायऑक्साइड (Sb₂O₃), हॅलोजन-मुक्त फ्लेम रिटार्डंट अपग्रेड आणि अचूक कार्यात्मक सामग्रीचे रुपांतर करण्यासाठी मूळ कच्चा माल म्हणून, केवळ कणांच्या आकारात परिमाणवाचक बदल नाही, तर प्रतिक्रिया मोडमध्ये गुणात्मक बदल देखील आहे: ते पारंपारिक "कण पृष्ठभाग प्रतिक्रियात्मक भाग" मध्ये श्रेणीसुधारित करते. याचा अर्थ असा की तुम्ही हॅलोजन अँटीमोनी सिनेर्जिस्टिक रिॲक्शनचे संपर्क क्षेत्र शेकडो पटीने वाढवले ​​आहे आणि प्रतिक्रिया आरंभीचा "इग्निशन विलंब" जवळजवळ शून्यावर कमी केला आहे, अत्यंत थर्मल शॉकच्या परिस्थितीत हाय-एंड पॉलिमरसाठी त्वरित, पूर्ण आणि स्फोटक गॅस-फेज फ्लेम रिटार्डंट संरक्षण प्रदान करते.

मूळ ताकद

1. मोनोडिस्पर्स नॅनोस्केल गुणवत्ता आणि अचूक नियंत्रण

- सरासरी कण आकार D50 20-100nm आहे (10-50nm च्या अल्ट्रा बारीक वैशिष्ट्यांसह सानुकूल करण्यायोग्य), ≤ 0.15 μm च्या कण आकार वितरण कालावधीसह, ≥ 0.92 एक मोनोडिस्पर्सिटी इंडेक्स, कोणतेही दुय्यम समुच्चय नाही, आणि 8 मीटर क्षेत्रफळ 0.50 मीटर पर्यंत उद्योगातील समान उत्पादनांपेक्षा जास्त.

- Sb₂O₃ ≥ 99.99%, मुख्य अशुद्धता As₂O₃ ≤ 0.005%, PbO ≤ 0.01%, Fe₂O₃ ≤ 0.002%, हानिकारक पदार्थांचे स्थलांतर रोखण्यासाठी, अन्नधान्य घटकांच्या संपर्कासाठी आणि ग्रॅनिक घटकांची आवश्यकता पूर्ण करण्यासाठी आणि वैद्यकीय दर्जाचे साहित्य.

- शुभ्रता ≥ 99.5 आहे, क्यूबिक क्रिस्टल्सचे प्रमाण ≥ 99.2% आहे, क्रिस्टल मॉर्फोलॉजी नियमित गोलाकार आहे आणि पृष्ठभागावरील हायड्रॉक्सिल सामग्री 0.8-1.2 मिमीोल/जी वर अचूकपणे नियंत्रित आहे, त्यानंतरच्या बदलांसाठी आदर्श प्रतिक्रिया साइट प्रदान करते.

-व्हॅक्यूम इनर्ट गॅस ग्रेडियंट ड्रायिंग प्रक्रियेचा अवलंब केल्याने, आर्द्रतेचे प्रमाण ≤ 0.06% आहे, पावडरमध्ये उत्कृष्ट प्रवाहक्षमता आहे (रिपोजचा कोन ≤ 32 °), आणि दीर्घकालीन स्टोरेज दरम्यान कोणतीही एकत्रित घटना नाही. बॅचमधील भौतिक आणि रासायनिक निर्देशकांचे विचलन ≤± 0.02% आहे.

2. इन सिटू मॉडिफिकेशन टेक्नॉलॉजी सहक्रियात्मक कार्यक्षमतेतील अडथळे दूर करते

-नॅनोक्रिस्टलाइन न्यूक्लीच्या निर्मितीदरम्यान पॉलिथिलीन ग्लायकोल (PEG) आणि सिलेन कपलिंग एजंट (KH-570) ची संमिश्र बदल प्रणाली सादर करून नवोपक्रम "वृद्धी सुधारणेची सिंक्रोनस इन-सीटू प्रक्रियेचा अवलंब करते. रासायनिक बाँडिंगद्वारे, एक कोर-शेल रचना तयार केली जाते, जी PP, PVC आणि इपॉक्सी रेझिन सारख्या मॅट्रिक्ससह सुसंगतता 80% ने सुधारते, पारंपारिक पोस्ट फेरबदलामुळे पसरलेल्या अस्थिरतेची समस्या पूर्णपणे सोडवते.

-हे हॅलोजन-मुक्त फॉस्फरस आधारित, नायट्रोजन आधारित, आणि विस्तार प्रकार ज्वालारोधकांसह एक सुपर सिनर्जिस्टिक प्रभाव निर्माण करते, ज्वलनाच्या वेळी वेगाने नॅनो लेव्हल डेन्स कार्बन लेयर आणि गॅस-फेज फ्री रेडिकल कॅप्चर लेयर तयार करते. फ्लेम रिटार्डंट रेटिंग थेट HB स्तरावरून UL 94 V0 स्तरावर (0.8mm जाडी), मर्यादा ऑक्सिजन निर्देशांक (LOI) ≥ 40, धुराची घनता रेटिंग (SDR) ≤ 40, आणि विषारी धूर सोडण्यात 75% घट आहे.

-समान ज्वालारोधक आवश्यकतांनुसार, सामान्य अँटीमोनी ट्रायऑक्साइडच्या तुलनेत अतिरिक्त रक्कम 40% -50% आणि पारंपारिक नॅनो उत्पादनांच्या तुलनेत 20% कमी केली जाते, ज्यामुळे सामग्रीची घनता आणि फॉर्म्युलेशन खर्च लक्षणीयरीत्या कमी होतो आणि सब्सट्रेट आणि प्रभाव ताणतणाव शक्तीसाठी ≥ 95% धारण दर राखून ठेवला जातो.

-हे 10 ⁷ -10 ⁹Ω· सेमी दरम्यान नियंत्रित प्रतिरोधकतेसह स्मोक सप्रेशन, अँटी-ड्रिपिंग आणि अँटी-स्टॅटिक यांसारखी अनेक कार्ये एकत्रित करते. हे विशेष अँटी-स्टॅटिक ॲडिटीव्ह बदलू शकते आणि फॉर्म्युलेशन सिस्टम सुलभ करू शकते.

अनुप्रयोग परिस्थिती

नवीन ऊर्जा बॅटरीच्या क्षेत्रात

-ॲप्लिकेशन: पॉवर बॅटरी पॅक केसिंग, लिथियम बॅटरी सेपरेटर कोटिंग, इलेक्ट्रोलाइट ॲडिटीव्ह, ऊर्जा साठवण उपकरणांसाठी ज्वालारोधक घटक

-फायदे: मोनोडिस्पर्सिबिलिटी लेप एकसमानता सुनिश्चित करते, ज्वालारोधक कार्यक्षमता 800V उच्च-व्होल्टेज प्लॅटफॉर्मच्या सुरक्षा आवश्यकतांशी जुळवून घेते आणि इलेक्ट्रोलाइट ॲडिटीव्ह म्हणून, बॅटरी सायकलचे आयुष्य 4000 पटीने वाढवू शकते.

- शिफारस केलेले डोस: 2% -5% (डायाफ्राम कोटिंग)/0.05% -0.1% (इलेक्ट्रोलाइट)/5% -10% (शेल सामग्री)

5G इलेक्ट्रॉनिक्स आणि सेमीकंडक्टर फील्ड

-ॲप्लिकेशन्स: 5G बेस स्टेशन अँटेना कव्हर, सेमीकंडक्टर पॅकेजिंग साहित्य, लवचिक सर्किट बोर्ड आणि मायक्रो इलेक्ट्रॉनिक घटक केसिंग

-फायदे: नॅनोस्केल कणांचा आकार डाईलेक्ट्रिक गुणधर्मांवर आणि सामग्रीच्या सिग्नल ट्रान्समिशन कार्यक्षमतेवर परिणाम करत नाही, उच्च शुद्धता चिप ऑपरेशनमध्ये अडथळा आणण्यापासून अशुद्धता टाळते आणि उच्च-फ्रिक्वेंसी आणि सूक्ष्म इलेक्ट्रॉनिक उपकरणांच्या गरजांना अनुकूल करते.

- शिफारस केलेले डोस: 1% -4% (पॅकेजिंग साहित्य)/3% -7% (इलेक्ट्रॉनिक आवरण)/2% -5% (लवचिक सर्किट बोर्ड)

उच्च अंत आर्किटेक्चर आणि बांधकाम साहित्य क्षेत्र

-ॲप्लिकेशन: पारदर्शक ज्वाला-प्रतिरोधक काच, अति-पातळ अग्निरोधक कोटिंग, ज्वाला-प्रतिरोधक इन्सुलेशन बोर्ड, लिफ्ट सजावटीचे पॅनेल

-फायदे: उच्च शुभ्रता, उच्च पारदर्शकता (प्रेषण ≥ 90%), बांधकाम साहित्याच्या देखाव्याच्या डिझाइनवर परिणाम करत नाही, अंतिम ऑक्सिजन निर्देशांक ≥ 38, EU CPR इमारत नियमांच्या सर्वोच्च फायर रेटिंग आवश्यकता पूर्ण करते

- शिफारस केलेले डोस: 4% -10% (अग्निरोधक कोटिंग)/6% -12% (पारदर्शक ज्वाला-प्रतिरोधक सामग्री)/8% -15% (इन्सुलेशन बोर्ड)

विशेष साहित्य क्षेत्र

-ॲप्लिकेशन्स: मेडिकल पीव्हीसी पाईप्स, फूड पॅकेजिंग फिल्म्स, एरोस्पेस कंपोझिट मटेरियल, पॉलिस्टर पॉलिमरायझेशन उत्प्रेरक

-फायदे: कमी अशुद्धता आणि उच्च फैलावता वैद्यकीय आणि अन्न संपर्क सामग्रीच्या सुरक्षा आवश्यकता पूर्ण करतात. उत्प्रेरक म्हणून, ते पॉलिस्टर पॉलिमरायझेशन कार्यक्षमता 18% पेक्षा जास्त सुधारू शकते आणि उत्प्रेरक वापर 50% कमी करू शकते.

- शिफारस केलेले डोस: 2% -5% (वैद्यकीय साहित्य)/3% -8% (एव्हिएशन कंपोजिट मटेरियल)/0.08% -0.15% (उत्प्रेरक क्षेत्र)

जर तुम्ही नॅनो अँटीमोनी ट्रायऑक्साइड आणि नॅनो लेव्हल फ्लेम रिटार्डंट सिनर्जिस्ट शोधत असाल, तर Taixing हा तुमचा सर्वोत्तम भागीदार असेल आणि आम्ही सर्वात अनुकूल सहकार्य किंमत देऊ!